투명 전도성 패턴 층의 형성방법 및 투명 전도성 패턴 층이 포함된 구조체의 제조 방법Forming method of graphene pattern layer, fabrication method of structure having graphene pattern layer

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dc.contributor.author이승섭ko
dc.contributor.author고승환ko
dc.contributor.author이동진ko
dc.contributor.author이상은ko
dc.date.accessioned2017-12-20T11:18:49Z-
dc.date.available2017-12-20T11:18:49Z-
dc.date.issued2013-06-05-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/233827-
dc.description.abstract본 발명은 휘어지기 쉬운 투명 전도성 패턴 층을 저항체 등의 전기소자로 사용하기 위해는 기판 등에 형성하는 방법과 투명 전도성 패턴 층이 포함된 구조체의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일실시예 따른 투명 전도성 패턴 층의 형성방법은 투명 전도성 물질 용액을 여과막으로 필터링하여 투명 전도성 막을 제조하는 단계와, 상기 투명 전도성 막이 포집된 상기 여과막을 상기 여과막을 선택적으로 에칭하는 에칭액이 담겨있는 용기에 투입하여 상기 여과막을 제거하는 단계와, 패턴이 형성된 마스크를 제작하여 기판 위에 부착하는 단계와, 상기 에칭액에 떠 있는 상기 투명 전도성 막을 상기 마스크가 부착된 기판으로 들어올려 상기 기판 위에 상기 투명 전도성 패턴 층을 전사하는 단계와, 상기 기판에서 상기 마스크를 분리하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의한 투명 전도성 패턴 층의 형성방법은, 폴리머의 분해 및 녹는 온도 미만에서 수행된다. 따라서 투명한 폴리머 구조체에도 적용할 수 있다.-
dc.title투명 전도성 패턴 층의 형성방법 및 투명 전도성 패턴 층이 포함된 구조체의 제조 방법-
dc.title.alternativeForming method of graphene pattern layer, fabrication method of structure having graphene pattern layer-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor이승섭-
dc.contributor.localauthor고승환-
dc.contributor.nonIdAuthor이동진-
dc.contributor.nonIdAuthor이상은-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2012-0001089-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1274125-0000-
dc.date.application2012-01-04-
dc.date.registration2013-06-05-
dc.publisher.countryKO-
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