유도 결합형 플라즈마 발생용 안테나 장치Antenna device for generating inductively coupled plasma
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 장홍영 | ko |
| dc.contributor.author | 이용관 | ko |
| dc.contributor.author | 윤남식 | ko |
| dc.contributor.author | 김성식 | ko |
| dc.contributor.author | 이평우 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T09:12:12Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T09:12:12Z | - |
| dc.date.issued | 2002-05-13 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/232183 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 대면적의 시료를 가공할 수 있는 대규모의 유도결합 플라즈마를 발생하기 위한 저 임피던스의 안테나 장치를 제공하며, 발생된 플라즈마의 밀도 분포가 균일하도록 조절할 수 있는 안테나 장치를 제공하기 위하여, 대규모의 플라즈마를 생성하기 위한 플라즈마 발생 장치를 위한 안테나 장치에 있어서, 고주파 전원; 상기 고주파 전원으로부터 고주파 전력을 공급받는 제 1 안테나; 및 상기 고주파 전원으로부터 고주파 전력을 공급받으며 상기 제 1 안테나와 병렬 접속되되, 상기 제 1 안테나와의 사이에서 공진 상태를 유지하는 제 2 안테나를 포함하는 안테나 장치를 제공한다. | - |
| dc.title | 유도 결합형 플라즈마 발생용 안테나 장치 | - |
| dc.title.alternative | Antenna device for generating inductively coupled plasma | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 장홍영 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이용관 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 윤남식 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김성식 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이평우 | - |
| dc.contributor.assignee | 주성엔지니어링(주),한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-1999-0035702 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-0338057-0000 | - |
| dc.date.application | 1999-08-26 | - |
| dc.date.registration | 2002-05-13 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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