형광 염료가 혼합된 광가교형 포토레지스트의 형광패턴Fluorescence pattern of the fluorescent dye incorporated photo-crosslinkable photoresiet
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 이효철 | ko |
| dc.contributor.author | 김장배 | ko |
| dc.contributor.author | 윤제문 | ko |
| dc.contributor.author | 왕기영 | ko |
| dc.contributor.author | 김진백 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T06:30:19Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T06:30:19Z | - |
| dc.date.issued | 2012-12-05 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/231150 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 형광패턴 형성방법에 있어서,a)기재 상에 가교반응형 폴리머 광산발생제, 형광체 및 유기용매로 이루어진 화학증폭형포토레지스트 조성물을 코팅하고 패턴된 포토마스크를 올린 후 노광하는 단계;b)상기 노광한 후 후열반응(postbaking)으로 형광패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 형광패턴 형성방법에 관한 것이다.또한 본 발명은 형광패턴 형성방법에 있어서, 기재 상에 광민감성 가교형 폴리머, 형광체 및 유기용매로 이루어진 비화학증폭형 포토레지스트 조성물을 코팅하고 패턴된 포토마스크를 올린 후 노광하는 단계를 포함하는 형광패턴형성방법에 관한 것이다. | - |
| dc.title | 형광 염료가 혼합된 광가교형 포토레지스트의 형광패턴 | - |
| dc.title.alternative | Fluorescence pattern of the fluorescent dye incorporated photo-crosslinkable photoresiet | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 이효철 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김장배 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 윤제문 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 왕기영 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김진백 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2012-0023674 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1210904-0000 | - |
| dc.date.application | 2012-03-07 | - |
| dc.date.registration | 2012-12-05 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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