표면 플라즈몬 공명을 이용한 형광 강화 ＯＬＥＤ

Abstract

본 발명의 형광 강화 OLED 디바이스는, 기판; 상기 기판의 한 표면상에 배치된 금속 하부-전극층; 상기 전극층의 한 표면상에 배치된 금속 박막 하부; 금속 박막 하부 한 표면상에 배치된 유기 EL요소; 상기 유기 EL 요소상에 배치된 금속 박막 상부; 상기 금속 박막 상부 한 표면상에 배치된 전도성 스페이서 층; 및 전도성 스페이서 층에 배치된 금속 상부-전극층을 포함하며, 상기 전극층 중 하나가 투명이고 다른 하나가 불투명하고 반사성이며, 상기 불투명하고 반사성인 금속 전극 층의 재료가 Ag, Au, Al 또는 이의 합금으로 선택되고, 상기 투명 금속 전극층의 재료가 ITO로 선택되며, 상기 금속 박막 상부와 하부는 불투명하고 반사성인 Ag, Au, Al로 선택되어, 상기 금속 박막 층의 재료와 두께, 위치 및 유기 EL 요소들의 두께가 형광 강화가 없는 유사 디바이스에 비해 형광 강화 OLED 디바이스의 발광 출력을 강화시키도록 선택된다.