대면적 방전 스캔 장치 및 이를 이용한 패턴의 형성방법Discharge scan apparatus for large area and method for fabrication of pattern using the same
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김필남 | ko |
| dc.contributor.author | 신현재 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T01:53:00Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T01:53:00Z | - |
| dc.date.issued | 2016-12-30 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/230116 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 대면적 방전 가공을 수행하기 위한 사각형 면을 갖는 단자를 포함하는 스캔부; 접지된 상태인 방전판; 및 상기 스캔부 및 방전판에 0.03 kW 내지 1.0 kW의 출력을 가하기 위한 출력부;를 포함하는 대면적 방전 스캔 장치를 제공한다. 본 발명에 따른 대면적 방전 스캔 장치는 대면적에 균일하게 방전 가공을 수행하여 원하는 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 대면적 방전 스캔 장치를 사용한 패턴의 형성방법은 일반적인 패턴, 계층 구조 패턴, 구배를 가지는 패턴 등을 형성할 수 있다. 이는 금속 와이어를 이용하여 실험실 단위에서 표면 구조를 형성하는 종래 기술보다 산업상 이용 가능한 진보된 방법이다. | - |
| dc.title | 대면적 방전 스캔 장치 및 이를 이용한 패턴의 형성방법 | - |
| dc.title.alternative | Discharge scan apparatus for large area and method for fabrication of pattern using the same | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김필남 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 신현재 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2014-0144001 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1693286-0000 | - |
| dc.date.application | 2014-10-23 | - |
| dc.date.registration | 2016-12-30 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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