본 발명에 따른 에어로졸 분사 장치는 에어로졸이 분사되는 하부 분사구를 가지고 있는 내측 하부 부재, 상기 내측 하부 부재와 제1 간격만큼 이격되어 피복 가스 챔버를 이루며 상기 하부 분사구와 중첩하는 상부 분사구를 가지고 있는 내측 상부 부재, 상기 내측 하부 부재 및 상기 내측 상부 부재와 결합되어 있는 외측 상부 부재를 포함하고, 상기 피복 가스 챔버의 제1 간격은 조절 가능하다. 따라서, 본 발명에 따른 에어로졸 분사 장치는 피복 가스가 분사되는 내측 하부 부재와 내측 상부 부재 사이의 제1 간격을 조절함으로써 박막 패턴의 선폭을 조절할 수 있다.