축전 결합 플라즈마용 전극 구조체 및 기판 처리 장치Electrode Structure for Capactively Coupled Plasma and Substrate Processing Apparatus
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 장홍영 | ko |
| dc.contributor.author | 서상훈 | ko |
| dc.contributor.author | 박기정 | ko |
| dc.contributor.author | 이윤성 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T01:38:27Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T01:38:27Z | - |
| dc.date.issued | 2017-05-16 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/229930 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 축전 결합 플라즈마 발생용 전극 구조체 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 전극 구조체는 RF 전원으로부터 임피던스 매칭 네트워크를 통하여 전력을 공급받고 진공 용기의 내부에 축전 결합 플라즈마를 형성하는 사각형 전극, 및 사각형 전극의 중심에 대하여 대칭적으로 배치되고 사각형 전극을 관통하는 적어도 4개의 트렌치를 포함한다. | - |
| dc.title | 축전 결합 플라즈마용 전극 구조체 및 기판 처리 장치 | - |
| dc.title.alternative | Electrode Structure for Capactively Coupled Plasma and Substrate Processing Apparatus | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 장홍영 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 서상훈 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 박기정 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이윤성 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2013-0056191 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1738718-0000 | - |
| dc.date.application | 2013-05-20 | - |
| dc.date.registration | 2017-05-16 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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