임베디드 토로이드 및 그 제조방법과 적층 집적회로소자Embedded Toroid and Method Manufacturing thereof, and Stack Integral Circuit Device

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dc.contributor.author김정호ko
dc.contributor.author조창현ko
dc.contributor.author김종훈ko
dc.date.accessioned2017-12-20T01:22:38Z-
dc.date.available2017-12-20T01:22:38Z-
dc.date.issued2013-12-04-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/229639-
dc.description.abstract적층 집적회로소자의 토로이드를 개시한다. 토로이드는 2층 내지 4층의 칩들을 관통하고, 관통비아의 둘레에 근접해서 배열된 n개의 근접관통비아(NTSV)들과, 2층 내지 4층의 칩들을 관통하고, 관통비아의 둘레에 원접해서 배열된 n개의 원접관통비아(FTSV)들을 포함한다. 또한 4층의 칩 표면상에 형성되고, n개의 근접 및 원접관통비아들 중 서로 대응하는 n개의 근접 및 원접관통비아 쌍(NFPA)들 각각을 상호 전기적으로 연결하기 위한 n개의 제1표면 배선패턴들과, 2층의 칩 표면상에 형성되고, n개의 근접 및 원접관통비아 쌍(NFPA)들 중 서로 인접하는 쌍들(NFPA i-1)(NFPA i)(NFPA i+1) 중 어느 한 쌍(NFPA i)의 근접관통비아와 다른 한 쌍(NFPA i-1)의 원접관통비아를 상호 전기적으로 연결하고, 어느 한 쌍(NFPA i)의 원접관통비아와 또 다른 한 쌍(NFPA i+1)의 근접관통비아를 상호 전기적으로 연결하기 위한 n-1 개의 제2표면 배선패턴들을 포함한다. 따라서 본 발명의 토로이드는 관통비아 둘레에 작은 크기로 간단하게 구현할 수 있으므로 적층 집적회로소자에서 관통비아를 통해 흐르는 전류측정을 정확하게 할 수 있다.-
dc.title임베디드 토로이드 및 그 제조방법과 적층 집적회로소자-
dc.title.alternativeEmbedded Toroid and Method Manufacturing thereof, and Stack Integral Circuit Device-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor김정호-
dc.contributor.nonIdAuthor조창현-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2012-0006104-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1339961-0000-
dc.date.application2012-01-19-
dc.date.registration2013-12-04-
dc.publisher.countryKO-
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