블록 공중합체의 자기조립 구조를 이용한 패턴형성과 이를 통한 반도체 미세구조의 자동적 패턴밀도 증가 방법
【과제】블록 공중합체를 이용한 미세 패턴 형성 방법을 제공한다.
【해결 수단】상호 인접한 제1 영역 사이에 제2 영역이 한정되도록, 복수의 제1 영역이 존재하는 기판으로 복수의 제1 영역을 처리해 제1 패턴을 형성하고 제 1 영역 및 제2 영역상에 제1 성분 및 제2 성분을 포함한 블록 공중합체를 블록 공중합체의 제1 성분이 제1 영역상에 정렬되도록 배열시키고 블록 공중합체의 제1 성분 및 제2 성분 중 하나의 성분을 선택적으로 제거하여 제1 영역과 그에 인접한 제2 영역과의 피치보다 한층 더 작은 피치를 가지는 제2 패턴을 형성하는 미세 패턴 형성 방법이다.
- Country
- JA (Japan)
- Issue Date
- 2013-10-11
- Application Date
- 2008-08-07
- Application Number
- 2008-204672
- Registration Date
- 2013-10-11
- Registration Number
- 5383114
- Appears in Collection
- MS-Patent(특허)
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