광 에너지를 이용한 나노용접, 미세패터닝 및 고분자 박막 코팅을 포함하는나노와이어의 미세패터닝 방법 및 이에 의해 제조된 나노와이어 물질The method of micro patterning of nanowire, containing nano-welding, micro patterning by using optical energy and polymer thin film coating and nanowire material manufactured by the same
본 발명은 광 에너지를 이용한 나노와이어의 나노용접, 미세패터닝, 및 성장 제어방법에 관한 것으로서, 기판에 증착시킨 나노와이어를 광 에너지를 활용하여 나노용접 및 나노패터닝을 한 후, 나노물질의 표면을 고분자물질로 코팅시키는 미세패터닝 방법을 제공한다.이를 통해, 전기적 성능을 향상시킬 뿐만 아니라, 패터닝이 되고난 후, 고온, 다습 조건에서도 나노와이어의 추가 성장을 막아 제작된 패턴의 유효성을 장기간 유지할 수 있다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2014-10-02
- Application Date
- 2013-06-13
- Application Number
- 10-2013-0067765
- Registration Date
- 2014-10-02
- Registration Number
- 10-1449745-0000
- Appears in Collection
- ME-Patent(특허)
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