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ECR $N_2O$-플라즈마 게이트 산화막을 사용한 고성능 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 온도 영향과 안정성 향상에 관한 연구 = Temperature effects and stability improvements in high performance poly-Si TFT with ECR $N_2O$-plasma gate oxidelink 이충헌; Lee, Chung-Heon; et al, 한국과학기술원, 1999 |
New self-aligned offset polysilicon thin film transistors = 자기 정렬 오프셋 구조를 가지는 새로운 다결정 실리콘 박막 트랜지스터link Han, Jung-In; 한정인; et al, 한국과학기술원, 1999 |
Polysilicon thin film transistor EEPROM cell with thin $N_2O$ ECR plasma oxide = 얇은 $N_2O$ 플라즈마 산화막을 이용한 다결정 박막트랜지스터 EEPROM 셀link Hur, Sung-Hoi; 허성회; et al, 한국과학기술원, 1998 |
(The) modeling of electrical characteristics for polysilicon thin film transistors = 다결정 박막 트랜지스터의 전기적 특성 모델링link Yang, Gi-Young; 양기영; et al, 한국과학기술원, 1999 |
저온 공정을 사용한 ECR $N_2O$-플라즈마 산화막을 가지는 다결정 실리콘 박막 트랜지스터 EEPROM 소자 = A polysilicon thin film transistor EEPROM cell with ECR $N_2O-plasma$ oxide using low temperature processlink 오정훈; Oh, Jung-Hoon; et al, 한국과학기술원, 1999 |
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