Browse "School of Electrical Engineering(전기및전자공학부)" by Subject Polysilicon

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(A) study on performance and stability of polysilicon thin-film transistors using ECR plasma thermal oxide as gate insulator = ECR 플라즈마 열 산화막을 게이트 절연막으로 사용하는 다결정실리콘 박막 트랜지스터의 성능및 안정성에 관한 연구link

Lee, Jung-Yeal; 이정렬; et al, 한국과학기술원, 1995

2
(A) study on performance, short-channel effects, and stability of polycrystalline silicon thin-film transistors using ECR $N_2O$-plasma gate oxide = 얇은 ECR $N_2O$-플라즈마 게이트 산화막을 사용한 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 성능, 단채널 효과 및 안정성에 관한 연구link

Lee, Jin-Woo; 이진우; et al, 한국과학기술원, 1999

3
ECR $N_2O$-플라즈마 게이트 산화막을 사용한 고성능 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 온도 영향과 안정성 향상에 관한 연구 = Temperature effects and stability improvements in high performance poly-Si TFT with ECR $N_2O$-plasma gate oxidelink

이충헌; Lee, Chung-Heon; et al, 한국과학기술원, 1999

4
New self-aligned offset polysilicon thin film transistors = 자기 정렬 오프셋 구조를 가지는 새로운 다결정 실리콘 박막 트랜지스터link

Han, Jung-In; 한정인; et al, 한국과학기술원, 1999

5
Polysilicon thin film transistor EEPROM cell with thin $N_2O$ ECR plasma oxide = 얇은 $N_2O$ 플라즈마 산화막을 이용한 다결정 박막트랜지스터 EEPROM 셀link

Hur, Sung-Hoi; 허성회; et al, 한국과학기술원, 1998

6
(The) modeling of electrical characteristics for polysilicon thin film transistors = 다결정 박막 트랜지스터의 전기적 특성 모델링link

Yang, Gi-Young; 양기영; et al, 한국과학기술원, 1999

7
저온 공정을 사용한 ECR $N_2O$-플라즈마 산화막을 가지는 다결정 실리콘 박막 트랜지스터 EEPROM 소자 = A polysilicon thin film transistor EEPROM cell with ECR $N_2O-plasma$ oxide using low temperature processlink

오정훈; Oh, Jung-Hoon; et al, 한국과학기술원, 1999

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