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Evaluation of effective work function and electrical properties via post-deposition annealing on $GeO_2$/Ge based gate stack = 저마늄 산화막/저마늄 기반의 게이트 구조에서 열처리에 따른 유효 일함수 및 전기적 특성 평가link Lee, Tae In; Cho, Byung Jin; et al, 한국과학기술원, 2017 |
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