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(A) Study on the stabilization of low dielectric SiOF thin film deposited by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition = ECRPECVD 법으로 증착한 저유전율 SiOF 박막의 안정화에 관한 연구link Kim, Suk-Pil; 김석필; et al, 한국과학기술원, 2002 |
ECRPECVD법으로 증착한 SiOF박막의 잔류응력 안정화에 관한 연구A study on the stabilization of residual stress in SiOF thin films deposited by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition 최시경; 김석필; 박영수; 정일섭, 한국요업학회, pp.192 -, 2000 |
Effect of N2O Plasma Treatment on the Water Absorption of SiOF Thin Films 최시경; 김석필; 박영수, 한국세라믹학회, pp.53 -, 2001 |
Residual Stress and Electrical Property with Deposition Parameter of Low Dielectric SiOF Thin Films Deposited by ECRCVD 최시경; 김석필, 추계 한국요업학회, pp.166 -, 1997 |
스퍼터링법으로 증착한 알루미늄 박막의 잔류응력에 따른 결정 배향성이 전기적성질에 미치는 영향 = Effect of crystallographic orientation affected by residual stress on electrical property of Al thin films deposited by sputteringlink 김석필; Kim, Suk-Pil; et al, 한국과학기술원, 1997 |
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