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A study on photoresist using concurrent radical and cationic polymerization = 라디칼 중합과 양이온 중합을 동시에 이용하는 포토레지스트에 관한 연구link Park, Jong-Jin; 박종진; et al, 한국과학기술원, 1995 |
Chemically amplifed resists based on the poly(1,4-dioxaspiro[4.4]nonane-2-methyl methacrylate) = 폴리(1,4-디옥사스피로[4.4]노난-2-메틸 메타크릴레이트)를 기본으로 하는 화학증폭형 레지스트link Park, Jong-Jin; 박종진; et al, 한국과학기술원, 1999 |
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