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PECVD방법으로 증착된 알루미늄 산화박막의 조성 및 구조분석 이원종; 천성순; 김용천, 한국재료학회 추계학술연구발표회, pp.0 - 0, 한국재료학회, 1992-11 |
플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 aluminum oxide 박막의 C-V 특성에 증착 변수가 미치는 영향 = The effect of deposition parameters on C-V characteristics of aluminum oxide thin films deposited by PECVDlink 김용천; Kim, Yong-Chun; et al, 한국과학기술원, 1990 |
플라즈마 화학증착법에 의해 증착된 알루미늄 산화막의 증착 기구와 전기적 특성에 관한 연구 = A study on the deposition mechanism and the electrical properties of aluminum oxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink 김용천; Kim, Yong-Chun; et al, 한국과학기술원, 1993 |
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