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(A) study on the characteristics of TaN films deposited by ALD using hydrogen plasma = 수소 플라즈마를 이용한 ALD 법으로 증착된 TaN 박막 특성에 관한 연구link Lee, Min-Jung; 이민정; et al, 한국과학기술원, 2001 |
Cycle-CVD법을 이용한 tantalum oxide 원자층 단위 증착 및 특성에 관한 연구 = A study on atomic layer deposition and film characteristics of tantalum oxide using cycle-CVDlink 송현정; Song, Hyun-Jung; et al, 한국과학기술원, 1998 |
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