Browse "Dept. of Materials Science and Engineering(신소재공학과)" by Author 전병혁

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1
0.25 ㎛ 리소그라피 공정에서 무반사층의 응용

노광수; 배병수; 전병혁; 한상수; Jiang, ZT; 김용범; 김동완; et al, 광학 및 양자전자 학술 발표회, 1996-01-01

2
Antireflective coating of flourinated silicon nitride for KrF excimer laser lithography

노광수; 배병수; 전병혁; 한상수; 이준성; 김용범; 강호영; et al, 제 4회 한국 반도체 학술대회, 한국 반도체 학술대회, 1997

3
DUV 리소그라피공정에서 TiOx 박막의 무반사층으로의 응용성

노광수; 전병혁; 고영범; 강호영; 김동완; 배병수; 이준성; et al, 한국재료학회 춘계학술발표대회, 한국재료학회, 1996-01-01

4
ECR-Mocvd를 이용한 SrTiO3박막의 증착 및 특성 평가

노광수; 이준성; 송한욱; 전병혁; 이원종; 유병곤, 한국요업학회 추계발표대회, 한국요업학회, 1995-01-01

5
ECR-PECVD법으로 증착된 Al2O3절연 박막의 특성에 관한 연구

이원종; 이재균; 전병혁, 한국재료학회 춘계학술연구발표회 1993, pp.0 - 0, 1993-01-01

6
ECR-PECVD와 RF-PECVD법에 의해 증착된 TiN 박막의 특성비교

이원종; 전병혁; 김종석; 이응직; 백종태; 강상원, 한국요업학회 추계학술연구발표회 1994, pp.0 - 0, 1994-01-01

7
ECR-PEMOCVD법을 이용한 BaxSr1-xTiO3 박막의 제조 및 특성평가

노광수; 이준성; 송한욱; 전병혁; 곽동화; 유병곤, 한국재료학회 추계학술발표, v.B31, 한국재료학회, 1995

8
ECR-plasma가 TiO2 박막의 성장에 미치는 영향

이원종; 노광수; 이준성; 윤대성; 전병혁; 유병곤, 한국요업학회 춘계학술연구발표회 1995, pp.0 - 0, 한국요업학회, 1995-01-01

9
Fluorinated Silicon Nitride 박막의 조성과 광학성질

노광수; 배병수; 전병혁; 이준성; 김대원; 성태현, 한국요업학회 추계학술발표대회, 한국요업학회, 1997-01-01

10
ICP-CVD법을 이용하여 증착한 비정질 Silicon Nitride막의 광특성

노광수; 배병수; 한상수; 전병혁, 한국요업학회 추계학술발표대회, 한국요업학회, 1996-01-01

11
PECVD법을 이용하여 증착한 Silicon Nitride막의 광특성

노광수; 한상수; 전병혁; 배병수, 한국요업학회 춘계학술발표대회, 한국요업학회, 1996-01-01

12
RF PECVD 법에 의해 증착된 TiN 박막 특성에 관한 연구 = A study on the characteristics of the TiN thin films deposited by RF PECVDlink

전병혁; Jun, Byung-Hyuk; et al, 한국과학기술원, 1995

13
RF PECVD 법에 의해 증착된 TiN 박막의 조성, 구조 및 전기적 특성

전병혁; 김종석; Lee, Won-Jong, KOREAN JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH, v.5, no.5, pp.552 - 559, 1995-08

14
RF-PECVD법과 ECR-PECVD 법에 의해 증착된 TiN박막의 물성비교 연구

이원종; 김종석; 전병혁; 이응직, 한국재료학회 1995 추계학술연구발표회, pp.0 - 0, 1995-01-01

15
YBCO 초전도체의 효과적인 플럭스 피닝 센터로서의 나노 크기 BaCeO₃ 합성

윤재성; 노광수; 김영하; 전병혁; 정세용; 김찬중; 이정필, PROGRESS IN SUPERCONDUCTIVITY, v.10, no.1, pp.12 - 16, 2008-10

16
극자외선 리소그래피 하부 무반사층용 fluorinated silicon nitride 박막의 제조 및 특성분석 = Fabrication and characterization of fluorinated silicon nitride thin film for the bottom antireflective layer in deep ultraviolet lithographylink

전병혁; Jun, Byung-Hyuk; et al, 한국과학기술원, 1998

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