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유도결합 $N_2O$ 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 특성과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터에의 응용에 관한 연구 = A study on the characteristics of inductively coupled $N_2O$ plasma silicon oxide and its application to polycrystalline silicon thin film transistorslink 원만호; Won, Man-Ho; et al, 한국과학기술원, 2001 |
유도결합 N2O 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 저온성장과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터에의 영향 원만호; 김상철; 안진형; 김보현; 안병태, 한국재료학회지, v.12, no.9, pp.724 - 728, 2002-09 |
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