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$TiO_2$ 부동태 피막의 반도체 성질에 미치는 피막 두께의 영향 = Effect of film thickness on the semiconducting properties of passivating $TiO_2$ filmslink 이응조; Lee, Eung-Jo; et al, 한국과학기술원, 1990 |
플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 aluminum oxide 박막의 C-V 특성에 증착 변수가 미치는 영향 = The effect of deposition parameters on C-V characteristics of aluminum oxide thin films deposited by PECVDlink 김용천; Kim, Yong-Chun; et al, 한국과학기술원, 1990 |
화학기상증착법으로 제조된 다결정 다이아몬드 박막의 전기적 특성 = Electrical properties of chemical vapor deposited polycrystalline diamond thin filmslink 이범주; Lee, Bum-Joo; et al, 한국과학기술원, 1999 |
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