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Synthesis of norbornene copolymers with acid labile organosilicon protecting groups and their application as dry-developable photoresists for ArF lithography = 산촉매에 의해 분해되는 유기 실리콘기를 노르보넨 측쇄에 함유하는 공중합체의 합성과 건식현상형 포토레지스트로서의 응용link Kang, Jae-Sung; 강재성; et al, 한국과학기술원, 2000 |
(The) effects of the $Si/SiO_2$ interface structure on electrical and optical properties = $Si/SiO_2$ 계면 구조가 전기적, 광학적 성질에 미치는 영향link Ha, Yong-Ho; 하용호; Kim, Se-Hun; Moon, Dae-Won; et al, 한국과학기술원, 2001 |
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