Showing results 1 to 2 of 2
(The) study of the characteristics of the dual frequency capacitively coupled plasma(DFCCP) = 이중 주파수 용량 결합 플라즈마의 특성 연구link Jeon, Bu-Il; 전부일; et al, 한국과학기술원, 2004 |
원거리 플라즈마를 이용한 CVD(Chemical Vapor Deposition)에 관한 연구 = The study on the plasma enhanced chemical vapor deposition(RPECVD)link 전부일; Jeon, Bu-Il; et al, 한국과학기술원, 2000 |
Discover