반응성 스퍼터링법으로 증착된 코발트 나이트라이드(Co-N) 박막을 이용한 (100) Si 기판에서의 $CoSi_{2}$ 에피층 형성에 관한 연구Formation of epitaxial $CoSi_{2}$ layer on (100) Si substrate using cobalt nitride(Co-N) film deposited by reactive sputtering
- Advisors
- 안병태researcher; Ahn, Byung-Taeresearcher
- Description
- 한국과학기술원 : 신소재공학과,
- Publisher
- 한국과학기술원
- Issue Date
- 2004
- Identifier
- 238329/325007 / 020023438
- Language
- kor
- Description
학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 신소재공학과, 2004.2, [ iii, 84 p. ]
- Keywords
반응성 스퍼터링; 에피층; 코발트 나이트라이드; 코발트 실리사이드; 에피택셜 코발트 실리사이드; EPITAXIAL COBALT SILICIDE; CO-N; COBALT NITRIDE; COBALT SILICIDE
- Appears in Collection
- MS-Theses_Master(석사논문)
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