반응성 스퍼터링법으로 증착된 코발트 나이트라이드(Co-N) 박막을 이용한 (100) Si 기판에서의 $CoSi_{2}$ 에피층 형성에 관한 연구Formation of epitaxial $CoSi_{2}$ layer on (100) Si substrate using cobalt nitride(Co-N) film deposited by reactive sputtering
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 안병태 | - |
| dc.contributor.advisor | Ahn, Byung-Tae | - |
| dc.contributor.author | 이승렬 | - |
| dc.contributor.author | Lee, Seung-Ryul | - |
| dc.date.accessioned | 2011-12-15T01:46:32Z | - |
| dc.date.available | 2011-12-15T01:46:32Z | - |
| dc.date.issued | 2004 | - |
| dc.identifier.uri | http://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=238329&flag=dissertation | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/51615 | - |
| dc.description | 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 신소재공학과, 2004.2, [ iii, 84 p. ] | - |
| dc.language | kor | - |
| dc.publisher | 한국과학기술원 | - |
| dc.subject | 반응성 스퍼터링 | - |
| dc.subject | 에피층 | - |
| dc.subject | 코발트 나이트라이드 | - |
| dc.subject | 코발트 실리사이드 | - |
| dc.subject | 에피택셜 코발트 실리사이드 | - |
| dc.subject | EPITAXIAL COBALT SILICIDE | - |
| dc.subject | CO-N | - |
| dc.subject | COBALT NITRIDE | - |
| dc.subject | COBALT SILICIDE | - |
| dc.title | 반응성 스퍼터링법으로 증착된 코발트 나이트라이드(Co-N) 박막을 이용한 (100) Si 기판에서의 $CoSi_{2}$ 에피층 형성에 관한 연구 | - |
| dc.title.alternative | Formation of epitaxial $CoSi_{2}$ layer on (100) Si substrate using cobalt nitride(Co-N) film deposited by reactive sputtering | - |
| dc.type | Thesis(Master) | - |
| dc.identifier.CNRN | 238329/325007 | - |
| dc.description.department | 한국과학기술원 : 신소재공학과, | - |
| dc.identifier.uid | 020023438 | - |
| dc.contributor.localauthor | 이승렬 | - |
| dc.contributor.localauthor | Lee, Seung-Ryul | - |
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- MS-Theses_Master(석사논문)
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