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| NO | Title, Author(s) (Publication Title, Volume Issue, Page, Issue Date) |
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| 플라즈마 화학증착법에 의해 제조된 기억소자용 고유전 탄탈륨 산화박막에 관한 연구 = PECVD $Ta_2O_5$ dielectric thin films for memory deviceslink 김일; Kim, Il; 천성순; Chun, Soung-Soon, 한국과학기술원, 1995 |
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