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Browse "MS-Theses_Ph.D.(박사논문) " by Author Kim, Jin-Baek

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1
Alicyclic polymers for chemically amplified resists = 화학증폭형 레지스트용 지방족 고리형 고분자link

Choi, Jae-Hak; 최재학; et al, 한국과학기술원, 1998

2
Chemically amplifed resists based on the poly(1,4-dioxaspiro[4.4]nonane-2-methyl methacrylate) = 폴리(1,4-디옥사스피로[4.4]노난-2-메틸 메타크릴레이트)를 기본으로 하는 화학증폭형 레지스트link

Park, Jong-Jin; 박종진; et al, 한국과학기술원, 1999

3
Deep UV and electron beam resists based on maleimide polymers = 말레이미드 고분자를 기본으로 한 원자외선 및 전자선 레지스트 연구link

Kim, Sang-Tae; 김상태; et al, 한국과학기술원, 1997

4
Positive and negative photoresists for ArF lithography using bile acids = 담즙산을 이용한 ArF 리소그라피용 포지형 및 네가형 포토레지스트link

Ko, Jong-Sung; 고종성; et al, 한국과학기술원, 2003

5
Synthesis and characterization of Di- and triblock copolymers of poly(ethylene oxide) and poly(DL-valine-co-DL-leucine) = 폴리에틸렌옥사이드와 폴리루신발린 블록공중합체의 합성과 특성에 관한 연구link

Jung, Hyun-Jin; 정현진; Kim, Jin-Baek; Cho, I-Whan; et al, 한국과학기술원, 2003

6
Synthesis and characterization of electroactive styrenic polymers with pyrrole pendant groups = 피롤을 함유하는 스티렌계 수지의 합성 및 전기적 특성link

Lim, Sung-Tek; 임성택; et al, 한국과학기술원, 1996

7
Synthesis of 3-(t-Butoxycarbonyl)-N-vinyllactams and application of their polymers as chemical amplification resists = 3-t-부톡시카보닐-N-비닐락탐류의 합성 및 화학증폭성 레지스트로서의 응용link

Jung, Min-Ho; 정민호; et al, 한국과학기술원, 1997

8
Synthesis of acrylate polymers with acid labile organosilicon protecting groups and their application as dry-developable photoresists for ArF lithography = 산촉매에 의해 분해되는 유기 실리콘기를 측쇄에 함유하는 아크릴레이트계 공중합체의 합성과 아르곤 플루오라이드 리소그라피용 건식현상형 포토레지스트로서의 응용link

Kim, Hyun-Woo; 김현우; et al, 한국과학기술원, 1999

9
Synthesis of copolymers containing hydroxycyclohexyl methacrylate and their application as DUV resist = 히드록시시클로헥실 메타크릴레이트가 포함된 공중합체의 합성 및 원자외선 레지스트로서의 응용link

Kim, Jae-Young; 김재영; et al, 한국과학기술원, 1998

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