ECR $N_2O$-플라즈마 게이트 산화막을 사용한 고성능 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 온도 영향과 안정성 향상에 관한 연구Temperature effects and stability improvements in high performance poly-Si TFT with ECR $N_2O$-plasma gate oxide
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 한철회 | - |
| dc.contributor.advisor | Han, Chul-Hi | - |
| dc.contributor.author | 이충헌 | - |
| dc.contributor.author | Lee, Chung-Heon | - |
| dc.date.accessioned | 2011-12-14T01:44:28Z | - |
| dc.date.available | 2011-12-14T01:44:28Z | - |
| dc.date.issued | 1999 | - |
| dc.identifier.uri | http://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=150895&flag=dissertation | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/37206 | - |
| dc.description | 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 전기및전자공학과, 1999.2, [ ii, 53 p. ] | - |
| dc.language | kor | - |
| dc.publisher | 한국과학기술원 | - |
| dc.subject | 박막 트랜지스터 | - |
| dc.subject | ECR plasma oxide | - |
| dc.subject | Polysilicon | - |
| dc.subject | Temperature effects | - |
| dc.subject | Stability | - |
| dc.subject | TFT | - |
| dc.subject | 안정성 | - |
| dc.subject | 온도 영향 | - |
| dc.subject | 다결정 실리콘 | - |
| dc.subject | ECR 플라즈마 산화막 | - |
| dc.title | ECR $N_2O$-플라즈마 게이트 산화막을 사용한 고성능 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 온도 영향과 안정성 향상에 관한 연구 | - |
| dc.title.alternative | Temperature effects and stability improvements in high performance poly-Si TFT with ECR $N_2O$-plasma gate oxide | - |
| dc.type | Thesis(Master) | - |
| dc.identifier.CNRN | 150895/325007 | - |
| dc.description.department | 한국과학기술원 : 전기및전자공학과, | - |
| dc.identifier.uid | 000973551 | - |
| dc.contributor.localauthor | 한철회 | - |
| dc.contributor.localauthor | Han, Chul-Hi | - |
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- EE-Theses_Master(석사논문)
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