미소입자 처리 장치는 유동 챔버, 다수개의 수직형 필라들 및 한 쌍의 제1 및 제2 전극들을 포함한다. 상기 유동 챔버는 미소입자를 포함하는 유체의 흐름을 위한 공간을 제공하며, 서로 마주보는 제1 면과 제2 면을 갖는다. 상기 유동 챔버의 상기 제1 면으로부터 상기 제2 면으로 연장 형성되어 상기 미소입자를 포획하기 위해 구비된다. 상기 제1 및 제2 전극들은 상기 수직형 필라들을 사이에 두고 상기 유동 챔버의 양측벽 상에 각각 구비되며, 상기 수직형 필라들의 주위에 불균일한 전기장 구배를 형성한다.