입자 표면 코팅을 위한 개시제를 이용한 화학 기상 증착 시스템 및 그 방법SYSTEM OF INITIATED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FOR PARTICLE SURFACE COATING AND THE METHOD THEREOF

Cited 0 time in webofscience Cited 0 time in scopus
  • Hit : 76
  • Download : 0
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.author임성갑ko
dc.contributor.author최준환ko
dc.contributor.author이민석ko
dc.contributor.author장원태ko
dc.date.accessioned2021-02-15T05:50:15Z-
dc.date.available2021-02-15T05:50:15Z-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/280719-
dc.description.abstract본 발명은 챔버 내부에서 표면에 고분자 박막이 증착된 입자를 챔버 외부에서 냉각시켜 다시 챔버로 주입하는 과정을 반복하여 입자의 고분자 두께를 결정하는 입자 표면 코팅을 위한 개시제를 이용한 화학 기상 증착 시스템 및 그 방법에 관한 것으로, 챔버 상부에 위치하며, 챔버의 내부로 입자(particle)를 주입하는 입자 주입부, 챔버 중앙에 위치하며, 상기 챔버의 내부로 단량체(Monomer) 및 개시제(initiator)를 주입하는 전구체 주입부, 챔버 하부에 위치하며, 상기 입자 주입부에 의해 주입되어 중력에 의해 하락하면서 표면에 고분자 박막이 증착된 입자를 회수하는 입자 회수부 및 상기 입자 회수부를 통해 챔버의 외부로 회수된 상기 표면에 고분자 박막이 증착된 입자를 냉각시키는 입자 냉각부를 포함한다.-
dc.title입자 표면 코팅을 위한 개시제를 이용한 화학 기상 증착 시스템 및 그 방법-
dc.title.alternativeSYSTEM OF INITIATED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FOR PARTICLE SURFACE COATING AND THE METHOD THEREOF-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor임성갑-
dc.contributor.nonIdAuthor최준환-
dc.contributor.nonIdAuthor이민석-
dc.contributor.nonIdAuthor장원태-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2018-0157873-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-2214614-0000-
dc.date.application2018-12-10-
dc.date.registration2021-02-04-
dc.publisher.countryKO-
Appears in Collection
CBE-Patent(특허)
Files in This Item
There are no files associated with this item.

qr_code

  • mendeley

    citeulike


rss_1.0 rss_2.0 atom_1.0