입자 표면 코팅을 위한 개시제를 이용한 화학 기상 증착 시스템 및 그 방법SYSTEM OF INITIATED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FOR PARTICLE SURFACE COATING AND THE METHOD THEREOF

Cited 0 time in webofscience Cited 0 time in scopus
  • Hit : 69
  • Download : 0
본 발명은 챔버 내부에서 표면에 고분자 박막이 증착된 입자를 챔버 외부에서 냉각시켜 다시 챔버로 주입하는 과정을 반복하여 입자의 고분자 두께를 결정하는 입자 표면 코팅을 위한 개시제를 이용한 화학 기상 증착 시스템 및 그 방법에 관한 것으로, 챔버 상부에 위치하며, 챔버의 내부로 입자(particle)를 주입하는 입자 주입부, 챔버 중앙에 위치하며, 상기 챔버의 내부로 단량체(Monomer) 및 개시제(initiator)를 주입하는 전구체 주입부, 챔버 하부에 위치하며, 상기 입자 주입부에 의해 주입되어 중력에 의해 하락하면서 표면에 고분자 박막이 증착된 입자를 회수하는 입자 회수부 및 상기 입자 회수부를 통해 챔버의 외부로 회수된 상기 표면에 고분자 박막이 증착된 입자를 냉각시키는 입자 냉각부를 포함한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Application Date
2018-12-10
Application Number
10-2018-0157873
Registration Date
2021-02-04
Registration Number
10-2214614-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/280719
Appears in Collection
CBE-Patent(특허)
Files in This Item
There are no files associated with this item.

qr_code

  • mendeley

    citeulike


rss_1.0 rss_2.0 atom_1.0