유기금속을 함유하고 있는 노르보넨 단량체, 이들의고분자 중합체를 함유하는 포토레지스트, 및 그제조방법과, 포토레지스트 패턴 형성방법(Organometal-containing norbornene monomer, photoresistcontaining its polymer, manufacturing methods thereof,and method of forming photoresist patterns)

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아래의 구조식 (I) 또는 (Ⅱ)로 표시되는 신규한 유기금속을 함유하는 노르보넨 단량체와, 이들의 고분자 중합체를 함유하는 포토레지스트, 및 그 제조방법과, 포토레지스트 패턴 형성방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 노르보넨 단량체를 이용하여 형성된 중합체는 기존의 포토레지스트의 매트릭스 고분자로 사용되는 것들과는 달리, 광산에 의해 화학증폭형으로 실리콘을 함유하고 있는 측쇄가 탈리되어 노광부와 비노광부의 실리콘 함량의 차이를 유도할 수 있다. 이러한 실리콘 함량의 차이에 의해 산소 플라즈마에 대한 에칭속도의 차이가 발생하고 이것에 의해 건식현상이 가능하다. 노르보넨, 건식현상, 화학증폭, 원자외선. 광산발생제
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2003-09-02
Application Date
2000-06-30
Application Number
10-2000-0037060
Registration Date
2003-09-02
Registration Number
10-0398312-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/236471
Appears in Collection
CH-Patent(특허)
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