3차원 금속 구조체의 형성 방법

Abstract

본 발명은 3차원 금속 구조체의 형성 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 자기 정합 단분자층(Self-Assembled Monolayer)을 이용하여 균일하게 금속 시드를 제거할 수 있는 3차원 금속 구조체의 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른, 기판 상에 형성된 3차원 금속 구조체의 형성 방법은, 상기 기판에 3차원 포토레지스트 몰드를 형성하는 단계; 상기 기판에 제1 금속 시드를 증착하는 단계; 상기 제1 금속 시드 상에 자기 정합 단분자층을 증착하는 단계; 상기 자기 정합 단분자층을 선택적으로 제거하는 단계; 상기 자기 정합 단분자층이 제거된 부분의 제1 금속 시드를 제거하는 단계; 상기 자기 정합 단분자층을 모두 제거하는 단계; 및 상기 포토레지스트 몰드에 제1 금속층을 채우는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 자기 정합 단분자층(Self-Assembled Monolayer), 폴리싱(Polishing), 3차원 금속 구조체(3-Dimensional Metal Structures)