전류밀도 제어를 이용한 전해가공방법Electrochemical Machining Process With Current DensityControlling
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김수현 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T11:54:16Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T11:54:16Z | - |
| dc.date.issued | 2003-01-23 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/234972 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 음전압이 인가된 탄소성분의 음극봉과, 양전압이 인가된 가공대상물을 일정크기의 용기에 담긴 전해액에 수장하고, 상기 가공대상물의 수장부위의 상단부위보다 하단부위가 더 빠르게 가공되는 형상효과를 길이방향의 하단부위보다 측면부위가 더 빠르게 가공되는 확산층 효과로 상쇄시켜 길이에 따른 직경변화가 일정한 가공대상물을 얻기 위해 인가되는 전류량을 조절하면서 전해가공하는 전류밀도 제어를 이용한 전해가공방법에 관한 것이다. 이 때, 상기 가공대상물은 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위해 아세톤과 증류수를 이용하여 초음파로 세척한다. 그리고, 상기 전해액은 그 몰수가 4∼6mmol 인 수산화칼륨용액인 것을 특징으로 하는 전류밀도 제어를 이용한 전해가공방법을 들 수 있다.전해가공, 전류밀도, 확산층 효과 | - |
| dc.title | 전류밀도 제어를 이용한 전해가공방법 | - |
| dc.title.alternative | Electrochemical Machining Process With Current DensityControlling | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김수현 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2000-0058439 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-0371310-0000 | - |
| dc.date.application | 2000-10-05 | - |
| dc.date.registration | 2003-01-23 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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