레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물 세정 장치 및 방법(Laser Cleaning Appartus and Method for the Contaminantson a Optically Transparent Substrate)Laser Cleaning Appartus and Method for the Contaminantson a Optically Transparent Substrate
본 발명은 레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물의 세정 장치 및 방법에 관한 것으로, 레이저 발생 장치, 호모지나이저를 포함하는 레이저 조사 장치, 광투과성 기판을 이송 및 고정시키는 이송/고정 장치, 광투과성 기판의 세정하고자 하는 오염물이 위치하는 일면이 노출되는 세정 챔버, 및 광투과성 기판에서 분리된 세정 챔버 내의 오염 물질을 흡입하는 흡입 장치를 포함하고 레이저 조사 장치로부터의 레이저는 광투과성 기판의 타면에서 조사되는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물의 세정 장치 및 이를 이용한 세정 방법을 제공한다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2007-11-15
- Application Date
- 2006-02-14
- Application Number
- 10-2006-0014036
- Registration Date
- 2007-11-15
- Registration Number
- 10-0778389-0000
- Appears in Collection
- ME-Patent(특허)
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