엑스선노광에 의한 판형상 감광성 폴리머의 미세구조물가공장치 및 그 가공방법FABRICATION APPARATUS OF MICRO-STRUCTURE FORMED OFPLATE-SHAPED PHOTOSENSITIVE POLYMER BY EXPOSING X-RAYAND FABRICATION METHOD THEREOF

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본 발명은 판형상 감광성 폴리머를 이송시키면서 일부분을 연속적으로 X선 마스크에 정렬시키면서 X선 노광하여 미세구조물을 가공하는 장치 및 그 방법을 개시한다. 본 발명의 X선노광에 의한 판형상 감광성 폴리머의 미세구조물 가공장치는 프레임과, 프레임의 일단에 형성된 하부지지대와, 하부지지대와 대향하고 그 사이에 간극을 형성하도록 배치된 상부지지대와, 간극에 배치되고 제작하고자 하는 감광성 폴리머의 형상에 대응하는 X선 흡수부를 구비하는 X선 마스크와, 감광성 폴리머가 외주에 감기며, 감광성 폴리머의 일부가 X선 마스크에 정렬되도록 프레임에 설치되는 롤러로 구성된다. 또한, 본 발명의 X선노광에 의한 판형상 감광성 폴리머의 미세구조물 가공방법은 X선 흡수부가 구비된 X선 마스크를 제작하는 단계와, X선 마스크에 판형상 감광성 폴리머의 일부를 정렬하는 단계와, X선 마스크상에 방사광을 노광하는 단계와, 감광성 폴리머의 일부가 연속적으로 X선 마스크에 정렬되도록 감광성 폴리머를 이송시키는 단계와, 감광성 폴리머를 현상액에 함침시켜 현상하는 단계로 구성된다. 본 발명의 구성에 따라, 적은 비용으로 제작할 수 있는 정밀한 미세구조물이 얻어진다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2007-08-31
Application Date
2004-08-18
Application Number
10-2004-0065059
Registration Date
2007-08-31
Registration Number
10-0756530-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/234722
Appears in Collection
ME-Patent(특허)
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