광여기 공정 장치 및 방법Apparatus and method for photo-induced process

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dc.contributor.author임굉수ko
dc.date.accessioned2017-12-20T11:29:00Z-
dc.date.available2017-12-20T11:29:00Z-
dc.date.issued2004-05-11-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/234113-
dc.description.abstract본 발명의 광여기 공정 장치는 광학창 대신 투명필름 사용으로 광학창 사용으로 인한 광 흡수 손실을 줄이기 위한 것이다. 본 발명은 광이 투과할 수 있는 개구부를 그 상판 중심부에 가지며 시료나 기판을 지지하는 지지대를 내장하는 반응실 하우징, 개구부를 통해 상기 반응실 내로 광을 조사할 수 있도록 그 발광면이 개구부와 대면하는 광원, 광원의 발광면과 반응실 개구부 사이에 위치하여 광원으로부터의 광이 반응실로 투과될 수 있는 개구부를 상하판의 중심부에 각각 가지며 하판이 반응실 상판과 결합되는 투명 필름 격납실 하우징, 투명 필름 격납실 하우징내에서 수평으로 설치되어 공급 및 수납되며 광원으로부터의 광이 투과할 수 있는 투명 필름, 광원의 발광면 가장자리를 그 중심 개구부 둘레에 용접한 제 1플란지, 격납실 상판 개구부 둘레에 용접되는 제 2플란지, 제 1 및 제 2플란지와 크기가 각각 같은 제 3플란지들이 그 양단에 각각 용접되어 제 1 및 제 2플란지 각각에 제 3 플란지의 크기가 같은 것끼리 연결됨으로써 광원, 투명 필름 격납실 하우징, 반응실 하우징이 하나의 밀폐 공간이 되도록 하며 광여기 공정 시 진공을 깨지 않고 광원의 상하 구동을 가능케 하기 위한 신축부 및 광원을 상하로 이동시키기 위한 구동장치를 포함한다. 상술한 본 발명에 의하면, 광원으로부터 방출된 빛, 특히 진공자외선을 유효하게 활용할 수 있으며, 장치가 매우 간단하며 실용적이어서, 대면적의 기판에 대한 광여기 공정을 손쉽게 행할 수 있는 효과가 있다.광여기, 광화학기상증착, 광학창, 흐림, 내열성, 투명필름, 진공자외선-
dc.title광여기 공정 장치 및 방법-
dc.title.alternativeApparatus and method for photo-induced process-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor임굉수-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2001-0055831-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-0432513-0000-
dc.date.application2001-09-11-
dc.date.registration2004-05-11-
dc.publisher.countryKO-
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EE-Patent(특허)
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