나노 임프린트용 복제 몰드의 제조방법 및 나노 임프린트용 복제 몰드METHOD OF FORMING REPLICATION MOLD FOR NANOIMPRINT AND REPLICATION MOLD FOR NANOIMPRINT

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본 발명은 나노 임프린트용 복제 몰드에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 나노 패턴이 전사되는 대상인 고분자 물질로부터의 이형성이 향상된 나노 임프린트용 복제 몰드의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, (a) 마스터 기판에 양각과 음각의 나노 패턴을 형성하여 마스터 몰드를 제작하는 단계와, (b) 상기 마스터 몰드 상에 고분자 용액을 도포한 후 경화하여 역상의 나노 패턴이 형성된 고분자 몰드를 제조하는 단계와, (c) 상기 고분자 몰드를 상기 마스터 몰드에서 분리하는 단계와, (d) 상기 고분자 몰드의 역상의 나노 패턴 상에 금속 층을 형성하는 단계를 포함하는 나노 임프린트용 복제 몰드의 제조방법이 제공된다. 본 발명에 따른 나노 임프린트용 복제 몰드는 나노 패턴 상에 금속 층이 형성되어 있거나, 단독의 금속 박판체로 구성되어 있어 종래의 나노 임프린트용 몰드에 비해서 이형성이 우수하다. 따라서 고분자 물질에 전사된 나노 패턴의 품질이 우수하다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2013-12-12
Application Date
2011-12-28
Application Number
10-2011-0144878
Registration Date
2013-12-12
Registration Number
10-1342900-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/233598
Appears in Collection
EE-Patent(특허)
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