실리콘 기판의 제조를 위한 사출금형과 나노 패턴 형성방법A SILICON INJECTION MOLD AND METHOD OF FORMING Of NANO PATTERN

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본 발명의 일실시예는 실리콘 기판에 나노 패턴을 구현하기 위한 사출 금형 및 그 제조방법에 대한 것으로서, 금형 코어인 실리콘 웨이퍼에 완충 부재를 덧대어 형폐 과정에서 실리콘 웨이퍼의 파손을 방지하고 대량 생산에 적합한 나노 패턴이 형성된 필름을 사출 성형할 수 있는 사출금형 및 그 사출 성형 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 사출금형에 따르면, 나노 패턴을 갖는 실리콘 기판을 구현할 수 있고, 상기 금형 코어인 실리콘 웨이퍼에 직접 패터닝하여 사출하는 방법을 통해 별도의 금속 스탬프의 제작 과정을 생략하여 사출 공정 과정의 단순화 및 비용 절감의 효과를 이룰 수 있는 나노 패턴 형성을 위한 사출 금형을 제공한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2015-10-06
Application Date
2015-04-08
Application Number
10-2015-0049909
Registration Date
2015-10-06
Registration Number
10-1559760-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/232302
Appears in Collection
RIMS Patents
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