나노 구조체의 제조 방법 및 이를 이용한 패턴의 제조 방법METHOD OF MANUFACTURING NANO STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING A PATTERN USING THE METHOD
나노 구조체의 제조 방법 및 이를 이용한 패턴의 제조 방법에 있어서, 나노 구조체의 제조 방법은 중성층을 포함하는 기판 상에 포토레지스트 패턴을 형성하고, 블록 공중합체를 포함하는 제1 박막으로 제1 희생 블록 및 제2 희생 블록을 포함하는 희생 구조체를 형성한 후, 화학 패턴을 형성함으로써 나노 구조체를 형성한다. 이에 따라, 대면적의 기판에 블록 공중합체를 이용한 나노 구조체를 용이하게 형성함으로써 생산성 및 제조 신뢰성을 향상시킬 수 있다.대면적, 나노 구조체, 블록 공중합체, 포토레지스트, 중성층, 리소그래피
- Assignee
- 삼성디스플레이 주식회사,한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2015-11-20
- Application Date
- 2009-10-23
- Application Number
- 10-2009-0101137
- Registration Date
- 2015-11-20
- Registration Number
- 10-1572109-0000
- Appears in Collection
- MS-Patent(특허)
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