타겟입자의 위치를 제어하는 장치 및 그 방법APPARATUS FOR CONTROLLING PSOITIONS OF TARGET PARTICLES AND METHOD THEREOF

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본 발명은 미세입자가 포함된 유체를 유로가 형성된 미세채널에 주입하고, 배출되어 분리되는 타겟입자에 대해 컷오프 크기를 조절할 수 있도록, 분리되어 배출되는 타겟입자의 위치를 제어하는 장치 및 그 방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 타겟입자의 위치제어 장치는, 적어도 한 종류 이상의 미세입자가 포함된 미세유체가 주입되는 미세유체 주입부; 상기 미세유체 주입부와 연결되어 상기 미세유체 주입부를 통해 주입되는 상기 미세유체에 포함된 미세입자의 이동을 제어하는 적어도 하나 이상의 요철패턴이 형성된 미세유체 채널부; 및 상기 미세유체 채널부와 연결되어 이동이 제어된 상기 미세입자를 배출하는 타겟입자 배출부;를 포함하고, 상기 요철패턴은 적어도 하나 이상의 제 1 채널구간 및 상기 제 1 채널구간과 교대로 형성되며, 상기 제 1 채널구간보다 단면적이 작은 적어도 하나 이상의 제 2 채널구간으로 이루어지며, 상기 제 2 채널구간의 미세유체 흐름 방향의 길이 변화에 따라, 상기 주입된 미세입자의 배출되는 위치가 변하는 것을 특징으로 한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2014-03-18
Application Date
2012-03-27
Application Number
10-2012-0031081
Registration Date
2014-03-18
Registration Number
10-1377565-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/231136
Appears in Collection
BiS-Patent(특허)
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