임계각 및 표면 플라스몬 공명각의 동시 측정 장치 및 방법

Abstract

본 발명은 특정 성분의 굴절률(농도) 변화와 시료 전체의 평균 굴절률(농도) 변화를 동시에 측정하여 보다 정확한 측정이 가능하고, 금속 박막에 고정화된 물질의 굴절률이 전반사 유도 매질의 굴절률에 비해 매우 클 경우에도 두 가지 변수를 모두 측정 가능토록 한 임계각 및 표면 플라스몬 공명각의 동시 측정 장치 및 방법을 제공하기 위한 것으로, 일실시예로서 광원(20)과; 상기 광원(20)에서 나온 빛(7)을 측정 범위에 따른 일정 각도 및 편광 상태로 변환시키는 광학장치(21)와; 상기 광학장치(21)를 통과한 입사광을 전반사 반응시키는 전반사 유도 매질(40)과; 상기 전반사 유도 매질(40) 밑면에 일정한 패턴을 갖고 도포되어 상기 측정시료와 접촉하여 SPR 현상을 발생시키는 얇은 금속 박막(41)과; 상기 전반사 유도 매질(40)의 밑면, 금속 박막(41)의 각기 굴절률에 따른 전반사 및 SPR 현상에 따라 반사광(8)의 광량 변화를 광학 장치(51)를 통과시켜 검출 하는 검출 장치(50)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.