Showing results 1 to 4 of 4
서로 다른 High-k 박막에 대해서 TMA 전처리에 따른 Ge/High-k 게이트 구조에서의 계면의 특성과 히스테리시스에 대한 연구 = Study on interface quality and hysteresis of Ge/High-k gate stack with TMA pretreatment for different High-k dielectricslink 이재진; Lee, Jae-Jin; et al, 한국과학기술원, 2012 |
위상 천이기 송인상; 박철순; 정동윤; 은기찬; 이재진; 조성준, 2010-09-01 |
차세대 밀리미터파 대역 WPAN용 60 GHz CMOS SoC 이재진; 정동윤; 오인열; 박철순, 한국전자파학회 논문지, v.21, no.6, pp.670 - 680, 2010-06 |
플라즈마의전자온도측정기 이재진; 신영훈; 이대희; 최영완; 민경욱; 성단근 |
Discover