DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.advisor | 이태억 | - |
dc.contributor.advisor | Lee, Tae-Eog | - |
dc.contributor.author | 정찬휘 | - |
dc.contributor.author | Jung, Chan-Hwi | - |
dc.date.accessioned | 2015-04-29 | - |
dc.date.available | 2015-04-29 | - |
dc.date.issued | 2014 | - |
dc.identifier.uri | http://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=592330&flag=dissertation | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/198108 | - |
dc.description | 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 산업및시스템공학과, 2014.8, [ vi, 59 p. ] | - |
dc.description.abstract | CVD 공정은 반도체 제조에서 널리 사용되는 공정이다. 그러나 반도체 회로의 최소 선폭이 극미세화됨에 따라서 Diffusion 공정의 활용이 증가하고 있다. 따라서 Diffusion 공정이 병목 공정화 되어가고 있다. 본 연구에서는 연속 병렬 설비하에서 시간제약을 갖는 연속 Diffusion 공정의 스케줄링 문제를 다루었다. 시간 제약은 첫번째 공정의 종료 시점과 두번째 공정의 시작 시점 사이의 대기시간을 의미한다. 본 연구에서는 총소요시간을 최소화하기 위해서 Batch를 형성하고, Batch의 진행순서를 결정하고, 설비에 할당하는 문제를 다루었다. 또한 실제 현장의 상황을 반영하기 위해 job의 도착 시간과 설비의 ready time을 반영하였다. 이러한 문제를 풀기 위해 본 연구에서는 정수계획법과 휴리스틱 알고리즘을 개발하였으며 두 모델간의 성능을 비교하였다. | kor |
dc.language | kor | - |
dc.publisher | 한국과학기술원 | - |
dc.subject | 스케줄링 | - |
dc.subject | Semiconductor | - |
dc.subject | Time constraints | - |
dc.subject | Diffusion | - |
dc.subject | Batch Process | - |
dc.subject | Scheduling | - |
dc.subject | 연속 배치 공정 | - |
dc.subject | 확산 공정 | - |
dc.subject | 시간 제약 | - |
dc.subject | 반도체 | - |
dc.title | 반도체 공정에서 시간 제약 하에 병렬 설비를 갖는 연속 배치 공정의 스케줄링 연구 | - |
dc.title.alternative | Scheduling of consecutive batch process with parallel diffusion tools under time window constraints for semiconductor manufacturing | - |
dc.type | Thesis(Master) | - |
dc.identifier.CNRN | 592330/325007 | - |
dc.description.department | 한국과학기술원 : 산업및시스템공학과, | - |
dc.identifier.uid | 020124547 | - |
dc.contributor.localauthor | 이태억 | - |
dc.contributor.localauthor | Lee, Tae-Eog | - |
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