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(A) study on the atomic layer deposition of Ti-Al-N thin films using plasmas = 플라즈마를 이용한 Ti-Al-N 박막의 원자층 증착법에 관한 연구link Lee, Yong-Ju; 이용주; et al, 한국과학기술원, 2003 |
In0.53Ga0.47As Channel MOSFETs With Self-Aligned InAs Source/Drain Formed by MEE Regrowth Singisetti, Uttam; Wistey, Mark A.; Burek, Gregory J.; Baraskar, Ashish K.; Thibeault, Brian J.; Gossard, Arthur C.; Rodwell, Mark J. W.; et al, IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, v.30, no.11, pp.1128 - 1130, 2009-11 |
리튬이온 2차 전지의 음극 소재용 Si-Ni alloy / graphite composite의 전기화학적 특성에 대한 연구 = Studies on the electrochemical properties of the Si-Ni alloy / graphite composite as an anode material for Li-ion secondary batterylink 이용주; Lee, Yong-Ju; et al, 한국과학기술원, 2004 |
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