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Browse "Dept. of Materials Science and Engineering(신소재공학과)" by Author 김재환

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1
Aluminium oxide 박막의 reactive ion etching 특성 = A study on the reactive ion etching properties of aluminium oxide thin filmslink

김재환; Kim, Jae-Whan; et al, 한국과학기술원, 1992

2
ECR PECVD법에 의한 PbTiO3박막제조

이원종; 노광수; 정성웅; 신중식; 김재환, 한국요업학회 추계학술연구발표회, 한국요업학회, 1993

3
ECR 플라즈마 화학기상증착법에 의한 0.12nm SiO2 환산두께를 갖는 Pb(Zr, Ti)O3 유전박막의제조

김재환; 김용일; 위당문; 이원종, 한국재료학회지, v.7, no.8, pp.635 - 639, 1997-04

4
ECR-PECVD 법으로 제조한 PZT 박막의 물성 연구 = Characteriszation of PZT thin films prepared by ECR-PECVDlink

김재환; Kim, Jae-Whan; 위당문; 이원종; et al, 한국과학기술원, 1996

5
ECR-PECVD법을 사용한 ULSI DRAM 용 PZT 박막 제조

김재환; 신중식; 김성태; 노광수; 위당문; 이원종, 한국진공학회지, v.4, no.1, pp.145 - 150, 1995-04

6
ECR-PECVD법을 사용한 VLSI DRAM용 PZT박막제조

노광수; 김재환; 신중식; 김성태; 위당문; 이원종, 한국진공학회 추계학술발표대회, 한국진공학회, 1995-01-01

7
Etch mask재료로서의 알루미늄 산화막의 제조 및 에칭특성(초록 No;B-22)

이원종; 김재환, 한국재료학회 춘계학술연구발표회, 1992

8
Reative ion etching properties of aluminum oxide films for etch mask

이원종; 김재환, Proceedings of 1992 RETCAM Meetings on Thin Films and Crystal Growth, pp.70 - 79, 1992

9
플라즈마 화학증착한 알루미늄 산화박막의 CCl₄ 플라즈마에서의 반응성 이온식각 특성

김재환; 김형석; 이원종, 한국세라믹학회지, v.31, no.5, pp.485 - 490, 1994-05

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