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금속유기화학기상증착법과 반응성 스퍼터링법으로 증착된 $CoN_x$ 박막을 이용하여 (100) Si 기판에서의 에피택셜 $CoSi_2$의 성장에 관한 연구 = Growth of epitaxial $CoSi_2$ layer on (100) Si substrate using $CoN_x$ film deposited by metallorganic chemical vapor deposition and reactive sputteringlink 김선일; Kim, Sun-Il; et al, 한국과학기술원, 2006 |
반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 $CoSi_2$ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구 = Growth behavior and thermal stability of $CoSi_2$ layer on poly-Si substrate using reactive chemical vapor depositionlink 김선일; Kim, Sun-Il; et al, 한국과학기술원, 2001 |
반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 CoSi2 layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구 김선일; 이희승; 박종호; 안병태, 한국재료학회지, v.13, no.1, pp.1 - 5, 2003-01 |
반응성 스퍼터링법으로 증착된 CoNx 중간층을 이용한 (100)Si 기판 위에서의 에피택셜 CoSi2 성장 연구 이승렬; 안병태; 김선일, 한국재료학회지, v.16, no.1, pp.30 - 36, 2006-01 |
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