Showing results 8 to 9 of 9
Reative ion etching properties of aluminum oxide films for etch mask 이원종; 김재환, Proceedings of 1992 RETCAM Meetings on Thin Films and Crystal Growth, pp.70 - 79, 1992 |
플라즈마 화학증착한 알루미늄 산화박막의 CCl₄ 플라즈마에서의 반응성 이온식각 특성 김재환; 김형석; 이원종, 한국세라믹학회지, v.31, no.5, pp.485 - 490, 1994-05 |
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