Ta(OC2H5)5와 NH3를 이용한 탄탈륨 산화막의 원자층 단위 증착 및 특성에 관한 연구
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 강상원 | - |
| dc.date.accessioned | 2013-03-15T14:13:58Z | - |
| dc.date.available | 2013-03-15T14:13:58Z | - |
| dc.date.created | 2012-02-06 | - |
| dc.date.issued | 1998 | - |
| dc.identifier.citation | 한국진공학회 제14회 학술발표회 논문요약집, v., no., pp.75 - 76 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/120141 | - |
| dc.language | KOR | - |
| dc.title | Ta(OC2H5)5와 NH3를 이용한 탄탈륨 산화막의 원자층 단위 증착 및 특성에 관한 연구 | - |
| dc.type | Conference | - |
| dc.type.rims | CONF | - |
| dc.citation.beginningpage | 75 | - |
| dc.citation.endingpage | 76 | - |
| dc.citation.publicationname | 한국진공학회 제14회 학술발표회 논문요약집 | - |
| dc.identifier.conferencecountry | South Korea | - |
| dc.identifier.conferencecountry | South Korea | - |
| dc.contributor.localauthor | 강상원 | - |
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