Ta(OC2H5)5와 NH3를 이용한 탄탈륨 산화막의 원자층 단위 증착 및 특성에 관한 연구

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dc.contributor.author강상원-
dc.date.accessioned2013-03-15T14:13:58Z-
dc.date.available2013-03-15T14:13:58Z-
dc.date.created2012-02-06-
dc.date.issued1998-
dc.identifier.citation한국진공학회 제14회 학술발표회 논문요약집, v., no., pp.75 - 76-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/120141-
dc.languageKOR-
dc.titleTa(OC2H5)5와 NH3를 이용한 탄탈륨 산화막의 원자층 단위 증착 및 특성에 관한 연구-
dc.typeConference-
dc.type.rimsCONF-
dc.citation.beginningpage75-
dc.citation.endingpage76-
dc.citation.publicationname한국진공학회 제14회 학술발표회 논문요약집-
dc.identifier.conferencecountrySouth Korea-
dc.identifier.conferencecountrySouth Korea-
dc.contributor.localauthor강상원-
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MS-Conference Papers(학술회의논문)
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