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(A) study on the deposition mechanism and characteristics of $Al_2O_3$ films deposited by atomic layer deposition using TMA and IPA = TMA와 IPA를 이용해 ALD법으로 증착된 $Al_2O_3$ 박막의 증착 기구와 특성에 관한 연구link Yang, Sung; 양성; et al, 한국과학기술원, 2000 |
Atomic Layer Deposition 방법을 이용한 금속 게이트 전극 일함수 조정에 대한 연구 = Study on tuning effective work function of metal gate electrode using atomic layer depositionlink 임성묵; Lim, Sung-Mook; et al, 한국과학기술원, 2013 |
능동-가중치 전하 샘플링을 이용한고차 시간상 이동평균 필터 신수환; 조용호; 조성훈; 유형준, 전자공학회논문지 - SD, v.49, no.2, pp.47 - 55, 2012-02 |
마이크로미러의 표면형상오차가 TMA 프로젝터의 광학계에 미치는 영향 = Effects of form errors of the surface of a micromirror on the optical system of the TMA projectorlink 조영식; Jo, Young-Shik; et al, 한국과학기술원, 2000 |
원자층 증착 방법을 이용한 일함수 조절 가능한 탄화티탄 박막 및 니켈 증착에 대한 연구 = Atomic layer deposition of workfunction-tunable Tic and nickel filmslink 김충기; Kim, Choong-Ki; et al, 한국과학기술원, 2014 |
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