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1
Deep UV and electron beam resists based on maleimide polymers = 말레이미드 고분자를 기본으로 한 원자외선 및 전자선 레지스트 연구link

Kim, Sang-Tae; 김상태; et al, 한국과학기술원, 1997

2
Effects of fluorine for photoresist properties = 불소를 포함하는 포토레지스트의 합성과 그 성질 변화에 관한 연구link

Kim, Young-Woo; 김영우; et al, 한국과학기술원, 2003

3
Molecular and polymeric resists for deep UV lithography = Deep UV 리소그라피용 분자 및 고분자 레지스트에 관한 연구link

Ganesan, Ramakrishnan; 가네산, 라마크리시난; et al, 한국과학기술원, 2006

4
Nd:YAG 레이저를 이용한 유리 기판상의 유기 오염물 레이저 세정 = Laser cleaning of organic contaminants on glass substrate using Nd:YAG laserlink

김진호; Kim, Jin-Ho; et al, 한국과학기술원, 2007

5
New materials for organic light emitting diodes and new matrix system for next generation photoresist = 유기 전기 발광 재료 및 차세대 포토레지스트 재료에 관한 연구link

Park, Ji-Young; 박지영; et al, 한국과학기술원, 2008

6
Photochemical crosslinking, enzymatic degradation and lithographic application of biodegradable Polyhydroxyalkanoates = 생분해성 폴리하이드록시알카노에이트의 광화학적 가교, 효소분해 및 포토레지스트로의 응용link

Kim, Sang-Nyon; 김상년; Shim, Sang-Chul; Kim, Jin-Baek; Shim, Hong-Ku; 심상철; 김진백; et al, 한국과학기술원, 2001

7
Quinizarin-containing polymers and their optical characteristics = 퀴니자린이 포함된 폴리머의 합성과 광학적 물성link

Yoo, Ji-Heum; 유지흠; et al, 한국과학기술원, 2004

8
Structural studies of the RNA promoter and PB1-F2 protein of the influenza A virus = 인플루엔자 A 바이러스의 RNA promoter와 PB1-F2 단백질의 구조연구link

Lee, Mi-Kyung; 이미경; et al, 한국과학기술원, 2004

9
Study on eco-friendly photoresists for thin film transistor and color filter = 박막트랜지스터와 컬러필터용 친환경 포토레지스트에 관한 연구link

Ha, Jae-Wook; 하재욱; et al, 한국과학기술원, 2013

10
Synthesis and application of polymers for 193-nm photoresists = 193-nm 포토레지스트용 고분자의 합성 및 응용link

Lee, Jae-Jun; 이재준; et al, 한국과학기술원, 2002

11
Synthesis and lithographic charaterization of poly(hydroxystyrene-co-t-butylacrylate-co-3- (butoxycarbonyl)-N-vinyl caprolactam) = Poly(hydroxystyrene-co-t-butylacrylate-co-3-(butoxycarbonyl)-N-vinyl caprolactam)의 합성과 리소그라피 특성link

Cheong, Jong-Ho; 정종호; et al, 한국과학기술원, 1996

12
Synthesis and lithographic performance of poly(1,4-dioxaspiro[4.7] dodecane-2-methyl methacrylate) = 폴리(1,4-디옥사스피로[4.7]도데칸-2-메틸 메타크릴레이트의 합성 및 리소그라피 특성link

Jang, Ji-Hyun; 장지현; et al, 한국과학기술원, 1999

13
Synthesis of copolymers with diazo groups and their application as DUV resists = 다이아조기를 포함하는 고분자의 합성과 레지스트로서의 응용link

Kim, Kyoung-Seon; 김경선; et al, 한국과학기술원, 2005

14
Synthesis of methacrylate polymers substituted with cholic acid derivatives with polar spacer and their lithographic application = 담즙산 유도체를 포함하고 극성 사슬을 갖는 메타크릴 공중합체의 합성과 포토레지스트로서의 응용link

Oh, Tae-Hwan; 오태환; et al, 한국과학기술원, 2002

15
Synthesis of norbornene copolymers with β-keto ester groups and their application as photoresists = 베타-케토 에스테르기를 노르보넨 측쇄에 함유하는 공중합체의 합성과 포토레지스트로서의 응용link

Kim, Kyoung-Seon; 김경선; et al, 한국과학기술원, 2001

16
Synthesis of silsesquioxanes with steroid derivatives and their application as photoresist = 스테로이드 유도체를 갖는 실세스퀴옥산의 합성 및 포토레지스트로서의 응용link

Choi, Bo-Yun; 최보윤; et al, 한국과학기술원, 2004

17
Vinyl tetrahydropyranyl ether-vinyl p-tetrahydropyranyloxy benzal-vinyl p-hydroxybenzal-vinyl acetate 의 합성과 리소그라피 특성 = Synthesis and lithographic charaterization of vinyl tetrahydropyranyl ether-vinyl p-tetrahydropyranyloxy benzal-vinyl p-hydroxybenzal-vinyl acetatelink

김진석; Kim, Jin-Seuk; et al, 한국과학기술원, 1996

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